Kaikki kirjat 25 % alennuksella koodilla: BOOKS

  • check Yli 10 miljoonaa kirjaa
  • check Uutuuksia joka päivä
  • check Yli 1 miljoona asiakasta luottaa meihin
  • check Hyvät hinnat ja alennukset
  • check Toimitus koko Eurooppaan

Doping Engineering for Front-End Processing -

englanti
2008-10-17
148,40 € 197,87 €

-25% koodilla BOOKS

Toimittajalla varastossa

Toimitus 17-23 arkipäivässä

30 päivän palautusoikeus

Materials scientists, silicon technologists and TCAD researchers come together in this book to share experimental results and physical models, discuss achievements and challenges, and identify key issues for future research in this field. The volume focuses on many aspects related to doping of semiconductors (Si, SiGe and Ge) for device fabrication, and explores areas for single-gate as well as multi-gate d ... Täydellinen kuvaus

Saatat myös pitää

Kuvaus

Materials scientists, silicon technologists and TCAD researchers come together in this book to share experimental results and physical models, discuss achievements and challenges, and identify key issues for future research in this field. The volume focuses on many aspects related to doping of semiconductors (Si, SiGe and Ge) for device fabrication, and explores areas for single-gate as well as multi-gate devices with planar and vertical architectures. Surface properties, coverage, bonding saturation and passivation, and annealing ambient are also discussed.

Lisätietoja

Julkaisija Cambridge University Press
Julkaisuvuosi 2008
Kannen tyyppi Kovakantinen
EAN 9781605110400
Kirjoita oma arvostelusi
Arvostelet: Doping Engineering for Front-End Processing
Arvostelusi:

Goodreads-arvostelut

148,40 € 197,87 €