Kaikki kirjat 25 % alennuksella koodilla: BOOKS

  • check Yli 10 miljoonaa kirjaa
  • check Uutuuksia joka päivä
  • check Yli 1 miljoona asiakasta luottaa meihin
  • check Hyvät hinnat ja alennukset
  • check Toimitus koko Eurooppaan

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes - Tien-Chien Jen,Sina Karimzadeh,Oluwatobi Adeleke

englanti
2025-05-06
113,39 € 151,18 €

-25% koodilla BOOKS

Toimittajalla varastossa

Toimitus 15-21 arkipäivässä

30 päivän palautusoikeus

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Saatat myös pitää

Kuvaus

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Lisätietoja

Kirjoittaja Tien-Chien Jen, Sina Karimzadeh, Oluwatobi Adeleke
Julkaisija Taylor & Francis Ltd (Sales)
Julkaisuvuosi 2025
Kannen tyyppi Pehmeäkantinen
EAN 9781032386737
Kirjoita oma arvostelusi
Arvostelet: Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
Arvostelusi:

Goodreads-arvostelut

113,39 € 151,18 €