Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes - Tien-Chien Jen,Sina Karimzadeh,Oluwatobi Adeleke
-25% koodilla BOOKS
Toimitus 15-21 arkipäivässä
30 päivän palautusoikeus
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.
Saatat myös pitää
Kuvaus
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.
Lisätietoja
| Kirjoittaja | Tien-Chien Jen, Sina Karimzadeh, Oluwatobi Adeleke |
|---|---|
| Julkaisija | Taylor & Francis Ltd (Sales) |
| Julkaisuvuosi | 2025 |
| Kannen tyyppi | Pehmeäkantinen |
| EAN | 9781032386737 |